Spin Coater

Referente: Alex Sangiorgi

Il rivestimento per rotazione è una tecnica che sfrutta la forza centrifuga per depositare film sottili uniformi su substrati planari. L’apparato per effettuare tale processo è chiamato spin coater. Una soluzione del materiale di interesse viene erogata al centro di un substrato che viene quindi ruotato ad alta velocità. La rotazione continua fino a quando la soluzione in eccesso non fuoriesce dallo stesso e viene raggiunto lo spessore desiderato del film. I due principali fattori che definiscono lo spessore del film sono velocità di rotazione e viscosità della soluzione.

Spin coater POLOS Spin150i-NPP, SPS-Europe
SPIN150i è adatto a substrati di svariate dimensioni, da frammenti piccoli anche di 5 mm fino a Ø 150 (o 6 “) o 4×4 “. Le caratteristiche più importanti sono:

• memorizzazione illimitata di programmi
• idoneità a tutti i processi che prevedono rotazione: pulizia, rivestimento, ecc.

SPIN150i è specificamente progettato per attività di R&D e produzione a basso volume nei settori MEMS, semiconduttori, FV e Microfluidica. SPIN150i è accoppiato alla piastra riscaldante Polos 150 per l’essiccazione del solvente e il consolidamento del film. Le principali caratteristiche della piastra sono:

• intervallo di temperatura 50 – 230 °C (uniformità ± 0.5 °C)
• piano riscaldato 180 x 180 mm